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  • GMD2000碳納米管漿料高剪切分散機
    碳納米管漿料高剪切分散機

    碳納米管漿料高剪切分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • GMD2000石墨烯橡膠復合漿料分散機
    石墨烯橡膠復合漿料分散機

    石墨烯橡膠復合漿料分散機采用上海思峻技術,*創意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質盤、乳化盤)。

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  • GMD2000石墨烯片層機械剝離分散機
    石墨烯片層機械剝離分散機

    石墨烯片層機械剝離分散機可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

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  • GMD2000石墨烯水性涂料研磨分散機
    石墨烯水性涂料研磨分散機

    石墨烯水性涂料研磨分散機線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。

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  • GMD2000氧化鋅固液研磨分散機
    氧化鋅固液研磨分散機

    氧化鋅固液研磨分散機透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果

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  • GMD2000聚四氟乙烯粉研磨分散機
    聚四氟乙烯粉研磨分散機

    聚四氟乙烯粉研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下,達到小的粒徑效果。

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  • GMD2000多空氧化鎂高剪切分散機
    多空氧化鎂高剪切分散機

    多空氧化鎂高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以物料分散的均勻,沉析纖維成絲狀。

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  • GMD2000鋁合金精煉劑高剪切分散機
    鋁合金精煉劑高剪切分散機

    鋁合金精煉劑高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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