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  • GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
    光刻膠去除劑高剪切分散機

    光刻膠去除劑高剪切分散機新的結構設計,將膠體磨和分散機一體化的設備,膠體磨磨頭+分散盤定轉子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機

    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、均質和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000水性防腐劑高速分散機
    水性防腐劑高速分散機

    水性防腐劑高速分散機能在真空或壓力環境下,實現物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。

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  • GMD2000石墨烯潤滑油高剪切分散機
    石墨烯潤滑油高剪切分散機

    石墨烯潤滑油高剪切分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • GMD2000橡膠抗氧劑高速乳化分散機
    橡膠抗氧劑高速乳化分散機

    橡膠抗氧劑高速乳化分散機機配合橡膠抗氧劑的生產:將原始粒徑15-30nm的抗氧劑顆粒倒入一定配比的去離子水中,加入表面活性劑和組分A,攪拌10min至物料全部均勻無大的團聚顆粒,將配好的液體倒入分散機中,打4-6遍,即可得到D50粒徑約300nm的均勻水性抗氧劑。

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  • GMD2000蛋白質高速分散機
    蛋白質高速分散機

    蛋白質高速分散機可在實驗室高速馬達,可選配不銹鋼帶夾套工作腔或玻璃工作腔。*的定轉子結構,產生*的剪切力,迅速減小液滴尺寸,處理物料更精細、更均勻。

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  • GMD2000納米氧化鎂均質分散機
    納米氧化鎂均質分散機

    納米氧化鎂均質分散機可在實驗室模擬在線工況進行循環或在線連續處理,具有高效均質無分散死角等特點。

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  • GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機
    石墨烯涂層漿料高剪切分散機

    石墨烯涂層漿料高剪切分散機的線速度達21M/S,由3級可調間隙的錐形定子和4級高速旋轉的錐形轉子形成研磨模塊,根據生產要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調速,定轉子每一級上的凹槽一級比一級精細,深度,方向的不同增加了流體的揣流。

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