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  • GMD2000亮光劑高剪切分散機
    亮光劑高剪切分散機

    亮光劑高剪切分散機能在真空或壓力環境下,實現物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。可配備多種高效宏觀攪拌器、高剪切均質乳化機以及可靠的真空密封系統和溫控系統,多種傳感檢測系統能在實驗室環境模擬工業化生產。

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  • GMD2000丙烯酸防水涂料高剪切分散機
    丙烯酸防水涂料高剪切分散機

    丙烯酸防水涂料高剪切分散機采用管線式分體式結構,物料從進口進入設備工作腔中,進行處理,然后再從出口打出,物料得的剪切細化分散,產品更均勻穩定。

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  • GMD2000復合催化劑高剪切分散機
    復合催化劑高剪切分散機

    復合催化劑高剪切分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續運行。而普通乳化機很難做到連續長時間的運行,并且普通乳化機不能承受高轉速的運行。

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  • GMD2000甲醛樹脂氣凝膠高剪切分散機
    甲醛樹脂氣凝膠高剪切分散機

    甲醛樹脂氣凝膠高剪切分散機高的轉速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據一些行業特殊要求,其剪切速率可以超過15000rpm,轉子速度可以達到44m/s。

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  • GRS2000磁流變液懸浮液高剪切分散機
    磁流變液懸浮液高剪切分散機

    磁流變液懸浮液高剪切分散機料不斷高速地從徑向射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動湍流。物料經過數次循環,完成分散、研磨、均質過程。

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  • GM2000飲料粉超細研磨高剪切膠體磨
    飲料粉超細研磨高剪切膠體磨

    飲料粉超細研磨高剪切膠體磨分為粗粉碎、細粉碎、微粉碎(超細粉碎)和超微粉碎4種類型。一般而言,超微粉體按大小可分為納米粉體、亞微米粉體、微米粉體等,粒徑在1~100nm的粉體稱為納米粉體,1~100μm的粉體稱為微米粉體,在0.1~1μm的粉體稱為亞微米粉體。

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  • GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機
    蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機

    蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩定目的。

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  • GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機
    石墨烯富鋅底漆涂料分散機

    石墨烯富鋅底漆涂料分散機在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出z終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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